Vodonik peroksid dobar za rezove

Vodonik peroksid

Princip vodikovog peroksida dobar za rezove:

 

Reakcija oksidacije:
Kad se H ₂ o ₂ razgrađuje, hidroksil radikali (· oh) i kisik (O ₂) se generiraju. Ove reaktivne vrste kisika mogu oksidirati i razgraditi organske spojeve ili određene anorganske materijale (poput metala i poluvodičkih materijala).
Primjer, u silikonskoj rezanci, H ₂ O ₂ Radi sinergistički sa hidrofluoričnom kiselinom (HF) za generiranje silicijumskog dioksida (sio ₂) na površini silikonskog oksida, koji će se HF tada otopiti za postizanje preciznog rezanja.
Katalitički razgradnja:
-Metal joni (poput Fe ² ⁺, cu ² ⁺) ili enzimi (poput kataloga) mogu ubrzati raspadanje H ₂ o ₂, oslobađajući veliku količinu kisika i toplote. Ova intenzivna reakcija može lokalno oštetiti materijalnu strukturu i pogodna je za obradu mikrofabricije ili biološkog tkiva.
Selektivno ječivanje:
-Ine poluvodičke procese, H ₂ o ₂ često se miješa sa drugim kiselinama kao što su sumporna kiselina i hidrofluorična kiselina. Podešavanjem koncentracije i temperature, specifični materijalni slojevi (poput fotorezerističkih i metalnih filmova) selektivno su supsektivno za postizanje rezanja uzorkovanja visoko preciznosti.

Područja primjene hidrogen peroksida dobra za rezove:

Proizvodnja mikroelektronike i poluvodiča:
Fotoresističko uklanjanje:
H ₂ O ₂ se miješa sa sumporom kiseline da bi se formirala "Piranha rješenje" (H ₂ tako ₄: h ₂ o ₂), što efikasno ljušti fotoresista i čisti površinu rezine.
Metal Etching:
U preradi tiskanih pločica (PCB), h ₂ o ₂ i hlorovodoničnu kiselinu (HCl) pomiješane su za uklanjanje bakrenih slojeva, oblikovanje obrazaca kruga.
Obrada silikonskih redova:
Koristi se za čišćenje i isključivanje površine silikonskih vafla, uklanjajući kontaminante ili oksidne slojeve.

Hvala na poseti i dobrodošli u svoj upit!

Popularni tagovi: Vodonik Peroksid dobar za rezove, Kina vodonik peroksid dobra za rezovene proizvođače, dobavljače, fabriku